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您的位置:網(wǎng)站首頁 > 技術(shù)文章 > 德國Hellma氟化鈣(CaF?)晶體技術(shù)參數(shù) 產(chǎn)品名稱:氟化鈣晶體(CaF?晶體)
原材料純度:高純度原材料
生產(chǎn)工藝:成熟合成晶體生長工藝
生產(chǎn)產(chǎn)地:德國耶拿
產(chǎn)品類型:多晶、單晶兩種可選
透光波段范圍:130nm(深紫外)~9μm(紅外),覆蓋真空紫外(VUV)、深紫外(DUV)、可見光、紅外(IR)全波段
折射率均勻性:優(yōu)于0.5ppm
應(yīng)力雙折射:≤0.5nm/cm
激光耐久性:適配193nm、248nm等準(zhǔn)分子激光波長,具備優(yōu)異長期穩(wěn)定工作性能
光譜色散:低色散特性,阿貝數(shù)95.23
非線性折射率:低非線性折射率
環(huán)境耐受性:優(yōu)異的真空環(huán)境適應(yīng)性、高能輻射環(huán)境穩(wěn)定性
尺寸:多晶直徑可達(dá)440mm,單晶直徑可達(dá)250mm;厚度可定制至150mm
晶體取向:支持<111>、<100>及隨機(jī)取向定制
表面質(zhì)量:可選原始、切割、研磨、拋光等多種處理精度
質(zhì)量管理體系認(rèn)證:ISO 9001/14001認(rèn)證
認(rèn)證:DAkkS認(rèn)證
符合標(biāo)準(zhǔn):DIN EN ISO/IEC 17025標(biāo)準(zhǔn)
檢測項(xiàng)目:全流程覆蓋光學(xué)性能、機(jī)械性能、環(huán)境穩(wěn)定性檢測,確保批次品質(zhì)一致性
半導(dǎo)體微光刻:248nm、193nm微光刻技術(shù)照明/投影光學(xué)系統(tǒng)
真空技術(shù):空間濾光片、壓縮機(jī)室真空窗口
科研與醫(yī)療:紅外光譜傳感器、醫(yī)用激光器、光學(xué)相干斷層成像設(shè)備
天文觀測:高分辨率天文觀測設(shè)備光學(xué)組件
特殊環(huán)境:天基光學(xué)器件(高能輻射環(huán)境)
解決方案:提供標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品及定制化參數(shù)設(shè)計(jì)、加工服務(wù)
技術(shù)支持:全鏈條技術(shù)支持體系(晶體參數(shù)設(shè)計(jì)-加工-檢測-交付)